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Katalogdatenanzeige

Silizium-Halbleitertechnologie

Silizium-Halbleitertechnologie
Kataloginformation
Feldname Details
Vorliegende Sprache ger
ISBN 978-3-519-30149-3
Name Hilleringmann, Ulrich ¬[VerfasserIn]¬
T I T E L Silizium-Halbleitertechnologie
Auflage 4., durchgesehene und ergänzte Auflage
Verlagsort Wiesbaden ; s.l.
Verlag Vieweg+Teubner Verlag
Erscheinungsjahr 2004
2004
Umfang 1 Online-Ressource (IX, 326 S. 279 Abb)
Reihe Springer eBook Collection. Computer Science and Engineering
Titelhinweis Erscheint auch als (Druck-Ausgabe)ISBN: 978-3-519-30149-3
ISBN ISBN 978-3-322-94072-8
Klassifikation TEC008070
TEC008000
TJF
621.381
TK7800-8360
Kurzbeschreibung Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 100 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik. Zur weiteren Verdeutlichung des Stoffes wurden in der 4. Auflage Abbildungen und vor allem weitere Übungsaufgaben ergänzt. "Ulrich Hilleringmann ist mit seinem (..) Buch genau dies gelungen: die komplexe und umfangreiche Materie präzise und doch stets verständlich darzustellen." Elektronik, 11/2003
SWB-Titel-Idn 497445220
Signatur Springer E-Book
Bemerkungen Elektronischer Volltext - Campuslizenz
Elektronische Adresse $uhttps://doi.org/10.1007/978-3-322-94072-8
Internetseite / Link Volltext
Kataloginformation500318849 Datensatzanfang . Kataloginformation500318849 Seitenanfang .
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