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- LPCVD silicon nitride and oxynitride films: material and applications in integrated circuit technology LPCVD silicon nitride and oxynitride films: material and applications in integrated circuit technology27 700/1 1 -
Titel: LPCVD silicon nitride and oxynitride films: material and applications in integrated circuit technology
Verfasser:
Jahr: 1991
Lit.abteilungen: Magazin.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
- Research reports ESPRIT: European strategic programme for research and development in information technology 2 -
Titel: Research reports ESPRIT: European strategic programme for research and development in information technology
Verfasser:
Jahr: 1991
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