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![](data:image/gif;base64,R0lGODlhAQABAIAAAAAAAP///yH5BAEAAAAALAAAAAABAAEAAAIBRAA7) |
Beiträge zur Rationalisierung der Raffinationselektrolyse und der Sekundärrohstoffverarbeitung in der Kupfermetallurgie [Vorträge des Berg- und Hüttenmännischen Tages vom 2. bis 4. Juni 1976] ; mit 14 Tabellen [Buch]
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1977 |
500038646
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Regalstandort: 11 359/1.
Lit.abteilungen: Magazin.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 1.
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2 |
![Electrodeposition from ionic liquids Electrodeposition from ionic liquids](Cover.cls?type=cover&isbn=9783527315659&size=100) |
Electrodeposition from ionic liquids [Buch]
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2008 |
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Regalstandort: VN 6050 E56.
Lit.abteilungen: Freihand.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 1.
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3 |
![Electrodeposition from ionic liquids Electrodeposition from ionic liquids](Cover.cls?type=cover&isbn=9783527682706&size=100) |
Electrodeposition from ionic liquids [E-Book]
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2017 |
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.
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![Fundamentals of electrochemical deposition Fundamentals of electrochemical deposition](Cover.cls?type=cover&isbn=9780471712213&size=100) |
Fundamentals of electrochemical deposition [Buch]
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Paunovic, Milan
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2006 |
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Regalstandort: VE 6300 P333(2).
Lit.abteilungen: Freihand.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 1.
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5 |
![¬Der¬ galvanische Prozess: Grundlagen der Metallabscheidung und Strukturbildung ¬Der¬ galvanische Prozess: Grundlagen der Metallabscheidung und Strukturbildung](Cover.cls?type=cover&isbn=9783874803465&size=100) |
¬Der¬ galvanische Prozess: Grundlagen der Metallabscheidung und Strukturbildung [Buch]
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Plieth, Waldfried
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2018 |
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Regalstandort: ZM 7625 P728.
Lit.abteilungen: Freihand.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 1.
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6 |
![](data:image/gif;base64,R0lGODlhAQABAIAAAAAAAP///yH5BAEAAAAALAAAAAABAAEAAAIBRAA7) |
¬Das¬ Hartverchromungs-Verfahren: die elektrolytische Abscheidung von Hartchrom, Arbeitstechnik und Anwendungsgebiete [Buch]
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Bilfinger, Robert
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1942 |
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Regalstandort: Ph VI 21/1P.
Lit.abteilungen: Magazin.
Verfügbar in: Hauptbibliothek NICHT AUSLEIHBAR.
Anzahl Exemplare: 1.
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7 |
![Kupferschichten: Abscheidung, Eigenschaften, Anwendungen Kupferschichten: Abscheidung, Eigenschaften, Anwendungen](Cover.cls?type=cover&isbn=9783874801638&size=100) |
Kupferschichten: Abscheidung, Eigenschaften, Anwendungen [Buch]
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2000 |
500135073
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Regalstandort: ZM 7620 K16.
Lit.abteilungen: Freihand.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 2.
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8 |
![Modern electroplating Modern electroplating](Cover.cls?type=cover&isbn=9780471168249&size=100) |
Modern electroplating [Buch]
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2000 |
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Regalstandort: ZM 7615 S342(4).
Lit.abteilungen: Freihand.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 1.
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![Thin films of Copper oxide and Copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices Thin films of Copper oxide and Copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices](Cover.cls?type=cover&isbn=9783941003170&size=100) |
Thin films of Copper oxide and Copper grown by atomic layer deposition for applications in metallization systems of microelectronic devices [Buch]
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Wächtler, Thomas
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2010 |
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Regalstandort: UP 7550 W126.
Lit.abteilungen: Freihand.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 2.
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10 |
![](data:image/gif;base64,R0lGODlhAQABAIAAAAAAAP///yH5BAEAAAAALAAAAAABAAEAAAIBRAA7) |
Verfahren und Gerät zur elektrischen Messung der Rauhigkeit elektrolytischer Kupferniederschläge [Hochschulschriften]
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Rödel, Gerd
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1977 |
500031015
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Regalstandort: 13 661/1.
Lit.abteilungen: Magazin.
Verfügbar in: Hauptbibliothek.
Anzahl Exemplare: 1.
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