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LPCVD silicon nitride and oxynitride films: material and applications in integrated circuit technology

LPCVD silicon nitride and oxynitride films: material and applications in integrated circuit technology
Kataloginformation
Feldname Details
Vorliegende Sprache eng
Name Habraken, Frans H. P. M. ¬[Hrsg.]¬
T I T E L LPCVD silicon nitride and oxynitride films
Zusatz zum Titel material and applications in integrated circuit technology
Verlagsort Berlin ; Heidelberg ; New York ; London ; Paris ; Tokyo ; Hong Kong ; Barcelona ; Budapest
Verlag Springer
Erscheinungsjahr 1991
1991
Umfang X, 159 S. : graph. Darst.
Format 25 cm
Reihe Research reports ESPRIT. Project 369, physical-chemical characterization of silicon oxynitrides in relation to their electrical properties ; 1
Research reports ESPRIT / 369
Band 1
Notiz / Fußnoten Literaturangaben
ISBN ISBN 3-540-53954-9 : DM 36.00 (kart.)
ISBN 0-387-53954-9 (kart.)
Klassifikation 621.381/52
TK7872.T55
37
42
ZN 3400
1. Schlagwortkette Siliciumoxinitride
LPCVD-Verfahren
Integrierte Schaltung
1. Schlagwortkette ANZEIGE DER KETTE Siliciumoxinitride -- LPCVD-Verfahren -- Integrierte Schaltung
2. Schlagwortkette Siliciumoxinitride
LPCVD-Verfahren
Integrierte Schaltung
ANZEIGE DER KETTE Siliciumoxinitride -- LPCVD-Verfahren -- Integrierte Schaltung
SWB-Titel-Idn 026201771
Signatur 27 700
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ISBD-Anzeige Katalogdatensatz500019499
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Kategorien-Anzeige Katalogdatensatz500019499
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Verwandte Werke Katalogdatensatz500019499
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Kataloginformation500019499 Datensatzanfang . Kataloginformation500019499 Seitenanfang .
Exemplarinformationen
Barcode Regalstandort Literaturabteilung Bandzählg. Zweigstelle Status Fälligkeitsdat.
00112840 27 700/1
 Magazin   Hauptbibliothek . . Verfügbar .  
Titel vormerken Katalogdatensatz500019499
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